HTHP法和CVD法技术互补，协同发展

造金刚石主要有高温高压法（HTHP）和化学气相沉积法（CVD）两大类生产方法，目前国内人造金刚石产品生产主要采用高温高压法（HTHP），两种技术形成了优势互补、协同发展的良性局面。

（1）高温高压（HTHP）法：工业金刚石应用领域广阔，市场需求大，我国拥有上游定价权

高温高压法合成人造金刚石的过程如下：由石墨粉、金属触媒粉和添加剂按照原材料配方所规定的比例混合后再经过造粒、静压、真空还原、检验、称重等工序制作成石墨芯柱，然后将石墨芯柱与复合块、辅件等密封传压介质组装在一起形成可用于合成金刚石单晶的合成块，之后放入六面顶压机内进行加温加压并长时间保持恒定，待晶体生长结束后停热卸压并去除密封传压介质取得合成柱，之后进行提纯处理和分选检测获得金刚石单晶。

我国是全球第一大人造金刚石生产国，垄断了全球 95%工业金刚石领域市场份额，具有 HTHP 法工业金刚石定价权。根据超硬材料网数据显示，我国目前行业存量压机 1-1.2 万台，其中用于工业金刚石 7000-9000 台；根据磨料磨具网数据显示，2020 年我国工业金刚石总产量 200 亿克拉，其中工业金刚石单晶+微粉 145 亿克拉，其中金刚石单晶及微粉产量达 145 亿 克拉，宝石级单晶 244 万克拉，金刚石复合片 587 万片。工业金刚石下游需求平稳，产能供应充足。

（2）CVD法：工业金刚石功能性应用领域潜力大

CVD法（化学气相沉淀）钻石是以一块天然钻裸石为母石，利用高纯度甲烷、加上氢、氮等气体辅助，在微波炉中以高压方式，让甲烷中与碳分子不断累积到钻石原石上，经过一层层增生，可形成大至10克拉；该法能够制备纯度较高、尺寸较大的金刚石颗粒和金刚石膜，具有更高的利用价值，同时随着技术的进步，可以工业化生产的尺寸也显著扩大，应用价值持续提升，应用领域也进一步拓展，未来有望广泛应用于电子器件、激光器、导弹、航天等领域。

MPCVD法是当前世界上研究和制备金刚石薄膜的主流方法。MPCVD法可以制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量金刚石薄膜，适合在各种曲面（异形表面）上涂覆金刚石薄膜，能制备各种不同需要的金刚石薄膜制品。并且可以原位实施基体与金刚石薄膜之间的中间层的多种不同处理工艺，适用性强。设备具有使用操作简便，能长期稳定运行，生产的重复性好，能耗低，运行成本低的优点。

CVD金刚石开发潜力巨大。人造金刚石不仅限于工业金刚石，还可作为高新技术材料在半导体、光学、量子技术等工业领域有广阔的应用空间。与 HTHP 法相比，CVD 法合成金刚石 具有尺寸大、低杂质浓度、高结晶质量等优点，在大尺寸、高纯度金刚石制备与掺杂研究方面 优势更明显，电学、光学、热学、声学等方面性能优异，是具有巨大开发潜力的功能性材料。

我国目前主要采用高温高压法（HTHP），这种方法垄断了我国现阶段工业金刚石的产能，但在展望未来，HTHP和CVD将保持共同发展的态势。两种生产方法采用不同的合成原理和合成技术，生产出的产品类型和产品特点也各不相同，主要产业应用也侧重在不同的终端领域。最终金刚石技术会趋于HTHP法和CVD法两种技术互补且协同发展。